Gel, chất đóng gói và lớp phủ bảo vệ

Lớp phủ một phần, trong mờ, độ nhớt thấp, bảo vệ với quá trình đóng rắn UV hoặc LED chính và quá trình đóng rắn ẩm thứ cấp cho các vùng bóng tối. Lớp phủ silicon độ nhớt thấp của chúng tôi hỗ trợ các phương pháp sản xuất tốc độ cao, bao gồm các kỹ thuật phun thủ công hoặc tự động, chảy hoặc phun tia. Những vật liệu chảy nhanh hơn này cũng là những lựa chọn phù hợp khi bạn muốn lớp phủ của mình chảy qua các lỗ thông hoặc dưới các chip. "Ảnh do ASYMTEK Products | Nordson Electronics Solutions cung cấp"

Lớp phủ một phần, trong mờ, độ nhớt trung bình, bảo vệ với quá trình đóng rắn UV hoặc LED chính và quá trình đóng rắn ẩm thứ cấp cho các vùng bóng tối. Lớp phủ silicon độ nhớt trung bình của chúng tôi hỗ trợ các phương pháp sản xuất tốc độ cao, bao gồm các kỹ thuật phun thủ công hoặc tự động, phun dòng chảy hoặc phun tia cũng như phân phối kim để ngăn chặn hoặc giữ các vùng hoặc nơi cần bảo vệ lớp phủ dày hơn.

Lớp phủ một phần, trong mờ, độ nhớt cao, bảo vệ với quá trình đóng rắn UV hoặc LED chính và quá trình đóng rắn ẩm thứ cấp cho các vùng bóng tối. Lớp phủ silicon có độ nhớt cao của chúng tôi cung cấp các tùy chọn để tăng khả năng kiểm soát tốc độ và khoảng cách dòng chảy, nhằm ngăn chặn chúng lan vào các khu vực "cấm". Lớp phủ có độ nhớt cao hơn của chúng tôi cũng cho phép tạo ra các lớp phủ dày hơn chỉ trong một lần.